第三百九十四章 與世界為敵

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《半導體行業的革新產品出現》

《阿斯麥公司率先研發出EUV光刻機》

《晶片工藝製程或將提升十倍》

《晶片工藝已將達到物理極限》

在依然還有著‘魔力’‘外星生物’這些熱點的時候，阿斯麥的EUV光刻機在背後一群資本的運作下，立刻就登上了全球熱點。

本來正常來說，一件商品的更新迭代都是有跡可循的，或者說會有著技術儲備。

比如明明EUV光刻機是重新的新開賽道，和以前的DUV光刻機關係不大，但在平行世界這也硬是等到了晶片達到了DUV光刻機極限的7nm瓶頸後才拿出來的。

但在這裡，因為安布雷拉DUV光刻機帶來的壓力，還有人工智慧以及量子計算+超算的模式前景擺在這裡。

為了重新爭奪這尖端利潤，為了更美好的前景。

在如今最頂級的晶片工藝製程還是14nm的時候，阿斯麥公司就端出了他們的EUV光刻機。

而且因為安布雷拉對鏡片領域的影響加持，還有其他各方面技術帶來的競爭感。

阿斯麥這次提前拿出的EUV光刻機比原本計劃的各項技術引數，還要更加優秀！

某積電、四星、英特爾等晶圓廠都已經到貨，並開始組裝除錯！

顯然阿斯麥的EUV光刻機並不是說剛剛才造出來的，是已經開始供貨讓他們加班加點的完成組裝後才開始官宣的。

為的就是一步到位，為的就是減少給競爭對手的反應時間！

EUV光刻機比DUV要大得多，重量180噸，甚至連運輸都需要專門的車輛，組裝起來也相當麻煩。

如果不是提前就已經為這些合作晶圓廠的工作人員進行了培訓，從頭開始的話安裝除錯個大半年都是相當正常的。

而現在，在安布雷拉那邊的壓力下，不管是阿斯麥還是各大晶圓廠都拿出了自己的最大潛力，加班加點的全都聯動了起來。

在各路資本推波助瀾的炒作下，配合著這次對於安布雷拉新增的多項制裁，也一下讓很多人多緩過了神來。

這一次，恐怕針對的就是安布雷拉！

“好大的手筆！”

“之前覺得世界公司已經很冤了，但對比一下針對安布雷拉的才可怕！”

“世界公司只是順帶被波及的，主要目標都放在安布雷拉這的，實在是他們身上的利益太大了。”

“阿斯麥好陰險啊，一直捂著不放，差不多一錘定音的時候就出來了。”

“……”

伴隨著網路上的討論發酵，等到熱度達到峰值的時候，阿斯麥這邊也進行了一個直播節目。

同時有著某積電、四星、英特爾等諸多半導體工程師，還有一些晶片設計廠、封裝廠等等的專業人士。

站在一處廠房外，所有人臉上都是帶著笑容。

直播鏡頭前，由阿斯麥的工程師率先開口進行了介紹

“恐怕很多人都沒想到，我們會直接放棄原本成熟的DUV技術，直接從頭開始的研發EUV光刻機。”

一邊說，他們還圍繞著廠房一邊走。

“或許從最開始，就沒人看好EUV光刻機，因為雖然理論上這能達到DUV光刻機的十倍解析度，但實在是太難了，難度太大，需要突破的瓶頸太多，對技術的需求極高，克服的難點數不勝數。”

一邊說著他還一邊開啟了手環，形成了一個三維的全息投影簡單的介紹道

“大家都知道光刻機的本質就是曝光，DUV光刻機，我們還能找到對應的鏡片讓深紫外線透過，特別是後來安布雷拉的技術產出的新鏡片，更是加強了這一點，安布雷拉自己的光刻機就是利用了這一點彎道超車，在不使用浸潤法的情況下超過了我們的效率！”

阿斯麥沒有去貶低安布雷拉，甚至還可以說在旁邊吹噓。

因為只有將安布雷拉的強大體現出來，才能說明他們更強！

這是一個強大的對手，但還是輸了，輸在了我們面前！

“但，這一點對EUV光刻機卻是不行，我們使用的13.5nm波長極紫外線電離能力極強，沒有鏡頭可以適合這種精度下讓這種高能光束透過，所以唯一可以選擇的辦法，只有反射！”

一邊說著，全息影象上也進行了改變，講解了一下大概的原理。

就是不斷利用一些鏡片的反射來完成對極紫外線的匯聚。

總共要完成十幾次的反射才能達到最後的曝光要求！

“這對於反射鏡片的精度需求可以說是極高的，要感謝卡爾蔡司公司在這方面的付出。”

說完就對旁邊卡爾蔡司的工程師做出了一個請的手勢。

卡爾蔡司公司的工程師也順勢站了出來禮貌的說道

“我們同樣利用到了安布雷拉的技術塗層，不過當然，就精度方面，我們還是有點自信的……”

隨後，阿斯麥的代表又介紹了他們的EUV光源。

“之前說了，極紫外線需要透過十幾次反射才能達到我們的效果，而因為極紫外線的電離消耗，每次反射都會損失大概30%左右的能量，最終我們能夠有效利用的光只有大概2%，因此，我們需要光源有著足夠且穩定的輸出功率，為了克服這個問題Cymer公司可是花費了整整十年的時間來攻克，不過Cymer公司在三年前已經被我們公司完成了收購……”

一邊說著，他一邊繼續外放了全息畫面，裡面連原理都出來了，就是用高能鐳射不斷轟擊液態金屬滴，難度和精確度看著他提供的資料就讓人頭皮發麻。

只是製造出來不難，可要保持穩定和持久，還有足夠輸出功率的光源，那就要確保每次的撞擊都極為精準，且頻率要足夠高。

不斷轟擊滴落的金屬液滴，各方面稍微有一點失誤都是完全不同的。

再後面隨著不斷的介紹，觀眾也明白了這臺機器是怎麼樣組合起來的怪物。

大漂亮的光源技術，霓虹的光源轉換裝置，高盧的閥件，普魯士的鏡頭，瑞典的軸承，都需要極為精密，缺一不可，連安裝都要極為精細要避開周邊環境的輕微震動。

甚至連運輸光刻機的車輛，都是某積電的專利技術！

直播到這裡，很多觀眾眼裡也就看明白了問題所在。

EUV光刻機絕不是一個兩個技術的問題，而是匯聚了全球所有最頂級的科技。

而這些頂級巨頭匯聚在一起，就是為了壓下安布雷拉公司。

還是直接靠著技術代差，一口氣完成碾壓的方式！

這本身，也是一種秀肌肉的表現！

如今，主流的晶片工藝才到14nm。

然而EUV光刻機的理論極限卻是能達到矽基晶片的極限，可以達到1nm！

如果能解決隧穿問題，甚至還能更低！

是，這不符合商業規律和利潤。

沒有慢慢的更新迭代來進行收割。

但沒辦法，安布雷拉這邊殺出來太強了，他們的DUV光刻機效能太好，而且晶片簡直就是處於黑盒狀態完全摸不清。

這種情況只能一口氣拿出最好的將他們直接打倒。

雖然晶片方面一下透支到了極限，但卻可以在量子計算+超算以及人工智慧方面補回來！

安布雷拉人工智慧再強，也是需要依託於硬體的！

現在，阿斯麥就是在這裡打明牌。

我們，擁有著全球各種最強的技術。

“這，就是我們的EUV光刻機，雖然現在才在各大晶圓廠完成安裝除錯，之後如何將工藝提升到極限還要看各大晶圓廠的手段，但我們的工具好歹已經制作完成，已經有了不斷試錯吸取經驗的條件，可以不斷向前，不斷前進……

“安布雷拉公司很強，非常強，強到讓人歎為觀止，我現在所展示的全息技術，我們鏡片上強化的塗層，還有人工智慧的結構等等，都奠定了安布雷拉的強大基礎。

“但，我們更強……”

隨後鏡頭拉遠，也將阿斯麥和諸多參與了EUV零部件設計的公司，將EDA三大廠，將晶片設計廠，將晶原廠所有代表，全都同框。

展現了他們巨大的底氣與實力。

之所以做出這個直播，就是為了向所有人宣告。

他們，掌握著全球最頂級的技術。

這種技術的沉澱，不是你短時間可以追趕上的！

你或許能短期突破某個瓶頸，可你無法突破全部瓶頸！

在伱追趕的時候，我們也會繼續前行，永遠走在前面，建好諸多壁壘堵住你的去路，讓我們始終保持著差距！

讓我們始終佔據著最大的利潤！

你們，在與世界為敵……

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三更~第一更~

(本章完)